美国投行给中国光刻机落后ASML 20年原因:缺乏制造先进光刻扫描仪能力
美国投行给中国光刻机落后ASML 20年原因:缺乏制造先进光刻扫描仪能力
快科技9月3日消息,昨天美国知名的投行高盛给出观点称,中国先进芯片制造业落后西方技术20年。投资银行高盛认为,中国光刻机公司至少落后美国同行20年。光刻技术是半导体制造的几个环节之一,也是阻碍中国制造高端芯片的唯一瓶颈。最先进的光刻机由荷兰公司ASML制造,由于其依赖美国原产的零部件,美国政府有权限...
高盛:中国光刻机只能造65nm!落后ASML 20年
高盛:中国光刻机只能造65nm!落后ASML 20年
快科技9月2日消息,近些年,我国在半导体芯片领域不断努力追赶,但差距依旧比较大,也是被卡脖子最严重的科技产业。根据著名投资银行高盛最新发布的报告,他们认为中国的国产光刻机只能生产65nm工艺的芯片,相比国际巨头ASML落后足足有大约20年!高盛称,虽然中芯国际已经可以生产7nm工艺芯片,但极有可能还...